加工定制:否 | 品牌:宏达 | 型号:thisis型号 |
用途:thisis用途 | 介质温度:介质温度4800℃ | 轴转速:轴转速5415r/m |
尺寸范围:尺寸范围3584mm | 使用材质:使用材质1705 | 压力范围:压力范围7982MPa |
规格:规格6189 |
当扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水***清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作:
具体方法是:启动维持泵,关好大门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕,否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈,或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热,否则扩散泵油会烧环,真空镀膜设备无法进入工作状态。
蒸发磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。
该设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。该设备配置了等离子体处理装置,高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等,设备沉积速率快,镀层附着力好,镀层细腻致密,表面光洁度高,且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制,装载量大,工作可靠,合格***,生产成本低,绿色环保。
真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术,使沉积粒子细化,膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜,可以镀金属膜、氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、镍、铬、铜、等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜,并能在极短的时间内完成全部加工工艺过程,是一种多功能高效镀膜设备。